PlasmaSTAR®模块化腔室和电极组件是该系统的*功能。 腔室材料是硬质阳极氧化铝， 有几种不同的电极设计，包括用于反应离子刻蚀（RIE）和平面处理的水冷平板电极，用于表面清洗或处理的交替多层托盘电极，用于小化离子损伤的下游电极，和用于普通的圆柱形笼式电极。

反应离子刻蚀机PlasmaStar 100仪器介绍 PlasmaSTAR®系列等离子处理系统适合处理所有的材料，拥有多种腔室和电极配置，可满足不同的等离子工艺和基片尺寸。占地面积小，用于各种等离子工艺的模块化腔室和电极配置。此外，触摸屏计算机控制，多级程序控制和组件控制，操作简单。PlasmaSTAR®模块化腔室和电极组件是该系统的*功能。

PlasmaSTAR®系列等离子处理系统适合处理所有的材料。 PlasmaSTAR®系统拥有多种腔室和电极配置，可满足不同的等离子工艺和基片尺寸。