光刻机Mask Aligner

光刻机分为半自动和全自动两大系列。MEMA-800是研发中心和大学中的微机开发。操纵器，压力传感器，加速度传感器，功率设备等。倒装芯片/BGA/CSP的暴露。暴露于光学/高速通信组件中。

二、技术参数：

1、目标分离：15〜75毫米；

2、总放大倍率：100倍；

3、观察照明器：红色LED（λ= 633 nm）；

4、X，Y平台移动范围：±5毫米；

5、θ调整：±5°

6、主体电源和水银灯：交流100V 50 / 60Hz 15A

7、真空源：低于21.3 Kpa（大气压为-80 Kpa）

8、镜片：积分镜

9、汞灯：250W超高压蒸汽汞灯

10、有效接触面积：大φ100毫米

11、强度分布：±5％以下

12、照度：20 mW / cm 2  （405纳米）

13、曝光时间控制：数字计时器和旋转螺线管

14、汞灯照明装置：交流110V

三、产品特点：

经济，紧凑和高级性能
在视场中查看两个对准标记的融合图像。
用于曝光的积分镜。
LED照明器