SU-8 3000光刻胶

特征

•提高附着力

         •降低涂层应力

•高纵横比成像

          •垂直侧壁

          •单层涂膜厚度大于100mm

           •出色的抗干蚀刻性

SU-8 3000抗蚀剂经过专门设计，可与MicroChem的SU-8显影剂一起用于浸渍，喷涂或喷浆工艺。 也可以使用其他基于溶剂的显影剂，例如乳酸乙酯和双丙酮醇。 对于高纵横比和/或厚膜结构，也建议强烈搅拌。 表6中给出了浸入过程的建议显影时间。这些显影时间是近似的，因为实际溶解速度会随着搅拌而变化很大。

SU-8 3000具有良好的机械性能。 但是，对于要保留成像的抗蚀剂作为终设备一部分的应用，可以在加热板上或对流烤箱中在150-200°C之间将抗蚀剂进行坡道/分步硬烘烤，以进一步使材料交联。 烘烤时间根据烘烤过程的类型和膜厚的不同而不同。