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简要描述:SU-8 2000化学放大,i线抗蚀剂非常适合制造 permanent性器件结构。 这些负色调,环氧基抗蚀剂表现出优异的耐化学性和低的杨氏模量,使其成为制造微/纳米结构的理想选择,如悬臂,膜和微通道。
产品分类
光刻胶
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详细介绍
MicroChem环氧树脂抗蚀剂由化学放大的环氧基负性抗蚀剂组成,它们具有高度功能性,光学透明性和可接近UV(365nm)辐射的可成像。固化膜或微结构是对溶剂非常抵扣的,酸和碱以及具有优异的热稳定性和机械稳定性,使其非常适合制造permanent结构,如像素墙,流体通道和喷嘴,微阵列和间隔物。
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