详细介绍
采用单片机作为控制核心部件,有*jinque的控温精度,紧凑美观。该设备对一些温度敏感材料(如晶体、半导体、陶瓷等)进行加热和装卡尤为适用。该设备结构简单,操作简便,安全可靠,是从事半导体热处理、材料研究生产、温度干燥试验等*的工具。
产品特点:
加热面积大,加热均匀,升温快;
采用微处理芯片jinque控制温度,持续加热,抗电磁干扰;
特殊防腐材料,耐腐蚀,使用寿命长;
设计美观大方;
热板表面材料:阳极氧化铝
温度加热范围:50℃到150℃(可升级到250℃)
温度均匀性:工作界面上±1%
适用基片尺寸:10mm~150mm
配置真空端口,与真空泵连用可以使基片和热板的紧密接触,提高导热性。
P.I.D温度控制,数字显示,可编程。
高亮度4位数字LED显示温度
控温显示jinque到0.1位(℃/℉)
真空度>15”;(需要配置一台小型真空泵)
外观尺寸:350×290×100mm。
热板配置直径2.5mm顶针,升起高度<=3mm;
3根顶针,外接圆内径约75mm;
配置定时器,可编程定时控制真空和顶针。
应用:
固化光刻胶,前烘,坚膜等
固化环氧塑脂
其它需要高精度控温的场合
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