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小型等离子去胶机

简要描述:美国Tergeo系列台式等离子去胶机专为实验室,研发和小规模生产部门提供性价比高的小型等离子去胶设备,等离子强度探测器实时定量检测等离子状态。

  • 产品型号:Tergeo
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2024-05-17
  • 访  问  量:2327

详细介绍

一、设备用途和特点
1、用途:生物化工和半导体材料科研领域实验室的全套解决方案,*解决材料的表面去胶、清洗、改性、活化、PDMS微流控芯片键合等工艺过程中的问题。

2、特点:
(1)外观整洁、美观,安全防护,节省空间的使用面积;
(2)材质易于清洗和维护,设备结构布局合理,用户操作、使用、维修方便;
(3)采用成熟、可靠的系统结构方式,确保设备工作的可靠性;
(4)高性能、低故障率、长使用寿命、易操作维修、造型美观、售后服务完备;
(5)7英寸触摸屏控制界面,全自动操作;
(6)等离子强度探测器实时测量等离子源强度。

二、技术参数
1、操作控制系统
1.1 操作界面:7英寸电阻触摸屏操作界面,直观易懂的用户界面; 
1.2 程序控制:可编程,总共有20个配方;
1.3 配方里面可以控制射频电源功率,射频脉冲占空比,2路气体的流量;
1.4 智能系统自检功能实时监测各个部件的状态。监测用户的操作模式,并且根据用户的操作模式或者碰到的问题实时提供建议。
1.5 可以通过外部电脑操作控制系统。可以要求厂家远程登陆来提供在线诊断和服务。可以存储系统操作和状态日志文件。

2、样品腔体
2.1 腔体材质:圆柱形石英玻璃舱;
2.2 前观测窗:前方开口,石英玻璃可视窗口,可观测内腔等离子状态,并带有防真空泄漏和避免高压的联锁装置,有效保护操作的安全性;

3、射频电源 
3.1 射频频率:13.56MHz;

4.等离子源设计
4.1 等离子强度探测器实时测量等离子源强度;
4.2 外置电极设计,高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染;
4.3 双等离子源:浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻;远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化(可选配)。
4.4 远程模式:同时具有直接模式和远程模式(可选配)。

5.等离子诊断功能
5.1*的定量等离子体强度传感器引导用户对不同样品调整配方。
5.2根据等离子强度传感器反馈而设计的智能等离子启辉和调谐功能,大大提高工作的射频功率范围,腔体气压范围。

6、气体控制 
6.1 气路控制:二路MFC。 

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