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SSI快速退火炉

简要描述:SSI快速退火炉系统是一个简单稳定的热处理系统,适合于广泛大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火(RTA),(如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等)。

  • 产品型号:Solaris 100 /150/200
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2024-05-17
  • 访  问  量:1636

详细介绍

美国RTP系列的快速退火炉温度均匀度≤1%,处理的大尺寸可以达到200mm,温度可以达到1200摄氏度,处理过程可以在真空环境或者惰性气体的环境中执行,做多可支持4~6路进气,可以用到的气体包含N2O2N2H2ArH2

基于PID处理控制器的Solaris GUI可以存储程序,每套程序可以支持高达100个步骤的设定,带USB2.0的接口。包含Solaris GUI 软件,与微软Windows操作系统兼容。通过该软件,通过链接电脑可以非常方便地实现程序编辑以及数据记录。

 

技术规格:

- 温度:1200摄氏度;

- 升温速率:150摄氏度/秒;

- 温控均匀性:±2.5℃设定温度;

- 加热方式:红外卤素灯,顶部及底部区域加热;

- 处理时间:0.1秒至无*;

- 灯管数量及功率:13支,

- 腔体冷却:风冷方式;

- 衬底冷却:氮气吹扫;

- 工艺气路:MFC控制,多6 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等)

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