基础型膜厚仪（紫外/近红外-高分辨率）

FR-pRo VIS/NIR基础型膜厚仪（紫外/近红外-高分辨率）光谱范围：350-1000nm ：

Α)卤钨光源系统Tungsten Halogen light source 全软件控制的光谱范围和辐照强度。

小型光谱仪光谱范围(350nm-1000nm)，分辨精度可达3648像素， 16位级 A/D 分辨精度；配有USB通讯接口；

光学连接器SMA 905, 光谱仪功率：110VAC/230VAC – 60Hz/50Hz.

10mm厚度的氧化铝面板，每英寸（25mm）间距，配有M6 (or ¼”) 口径钻孔，用以安装光学部件。

样品放置台，配有多点Z轴聚焦和X-Y轴移动调节。反射探针夹具调节范围 (200mm – 200mm – 60mm)，可在测试区域内精准调节。

Β) FR-Monitor膜厚测试软件系统，

可精确计算如下参数：

1）单一或堆积膜层的厚度；

2）静态或动态模式下，单一膜层的折射率；本软件包含了类型丰富的材料折射率数据库，可以有效地协助用户进行线下或者在线测试分析。本系统可支持吸收率，透射率和反射率的测量，还提供任何堆积膜层的理论性反射光谱，一次使用授权，即可安装在任何其他电脑上作膜厚测试后的结果分析使用。

C) 参考样片：

a) 经校准过的反射标准硅片；

b) 经校准过的带有SiO₂/Si 特征区域的样片；

c) 经校准过的带有Si₃N₄/SiO₂/Si特征区域的样片；

D) 反射光学探针

系统内嵌6组透射光探针200μm, 1组反射光探针200μm；