原子层沉积

占地面积小的桌面系统，兼容无尘室。

占地面积小的桌面系统（< 0.15 立方米 | 2.5 平方英尺）

具有超快 MFC 的高温兼容快速脉冲 ALD 阀，用于集成惰性气体吹扫。

4 英寸圆形卡盘可定制，适用于较小尺寸或其他形状（11 毫米高）。

3 种有机金属前体和 2 种（最多 3 种）反反应物。

整个加热管线（从前体到腔室）。

高曝光（用于沟槽和多孔基板）和静态处理模式

全铝（半导体级）腔室 ‒ 范围高达 310°C

7″ 触摸屏 PLC 控制器（无需 PC）

包括终身软件升级

1 年保修（包括零件）

AT610

全铝（半导体级）腔室 ‒ 范围高达 310°C

具有超快 MFC 的高温半导体级快速脉冲 ALD 阀，用于集成惰性气体吹扫。

6″ 圆形卡盘（7″ 方形）可定制为更小的尺寸或其他形状（11 毫米高）。

流线型腔体设计，腔体体积小

3 种有机金属前体和 2 种（最多 3 种）反反应物。

整个加热管线（从前体到腔室）。

简单的系统维护和市场上的公用事业和前体使用

高曝光（用于沟槽和多孔基板）和静态处理模式

7″ 触摸屏 PLC 控制器（无需 PC）