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详细介绍
二、美国PIE等离子清洗机的特点
1、13.56MHz高频射频发生器;
2、7英寸触摸屏控制界面,全自动操作;
3、标配75W版本,可选150W版本;
4、系统具有双等离子源。浸入式等离子源用于主动表面处理、光刻胶蚀刻。远程式等离子源用于温和的污染清除以及脆弱易损样品的表面活化。
三、美国PIE等离子清洗机技术参数
1、控制系统
1)操作界面:7英寸电阻触摸屏操作界面,支持多种工作方式。
2)程序控制:可编程,总共有20个程序,每个程序有3个清洁步骤。
2、反应腔体
1)腔体材质:圆柱形石英玻璃舱;
2)腔体容积:2.6L;
3)腔体尺寸:内径:110毫米,深度:280毫米。
3、射频电源
1)射频频率:13.56MHz;
2)射频功率:标配0~75W;从0瓦到75瓦之间以1瓦间距连续可调,可选0~150W;。
4、等离子源
1)等离子强度探测器实时测量等离子源强度。
2)外置电极设计,高压电极不合等离子接触以避免金属溅射造成的样品污染。
5、气体控制
1)气路控制:标配一路MFC;可选配三路MFC;
2)质量流量计可以在0~100sccm之间准确控制气体流量;
3)一路(Venting and purging)气体入口用来快速给样品室放气和冲走残余处理气体。
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